双重曝光程序 指的是在同一张底片上进行两次或多次曝光的技术或过程。这种技术可以创造出具有神秘和美观视觉效果的照片，被广泛应用于摄影和半导体制造领域。
摄影领域
双重曝光摄影是一种独特的摄影技法，通过在同一张底片上进行两次曝光，使两个独立的影像相互交织、重叠，营造出梦幻而富有艺术感的视觉效果。
拍摄双重曝光照片的方法包括：
将相机设置为手动模式，调整快门速度、光圈和ISO，确保两次曝光都能得到清晰的图像。
把握构图和光线，分别拍摄两个主体，完成两次曝光。
双重曝光可以通过相机的功能设置直接拍摄，也可以通过后期软件合成。
半导体制造领域
双重曝光（Double Exposure, DE）技术是指在光刻胶上实施两次独立的曝光操作，每次曝光采用不同的掩模版。
这一技术利用光刻胶对光强的累积效应，通过两次曝光光强的叠加，创造出所需的精细图形。
双重曝光工艺流程包括烘烤、显影、刻蚀等步骤，最终将光刻胶上的图形转移到晶片下方的材料层上。
总结：
双重曝光程序在摄影中是一种创意手法，用于创造具有艺术感的视觉效果；在半导体制造中，它是一种精密工艺，用于突破光刻机的分辨率限制，制造更小的电路图案。