样品的制备程序根据不同的应用需求和样品类型而有所差异。以下是一些常见的样品制备程序：
机械抛光
适用于多种材料，包括绝缘体、矿物和金属。
首先使用金刚石砂纸进行初步打磨，随后用胶质硅完成抛光。
这种方法操作简便且效率高，但可能会对样品表面造成一定程度的破坏，并引入残余应力。
电解抛光
特别适合金属样品，能够提供高质量的表面，使菊池花样更加清晰。
需要对抛光工艺进行细致的调整和优化。
氩离子抛光
利用氩离子束轰击样品，无磨料污染和划痕，对样品损伤小，变形小。
非常适合EBSD分析，适用于难以抛光的软、硬材料及多层材料。
土壤样品制备
包括风干、粗磨、细磨和分装等步骤。
风干室要求通风良好、整洁、无尘、无易挥发性化学物质。
粗磨和细磨过程中使用不同的研磨工具和筛网，以确保样品粒度和均匀性。
样品分装前需进行初步自检，确保符合设计要求。
液体样品制备
对于液体样品，取样后需先混合均匀。
对大容器中的液体，可以使用玻璃管在不同深度和部位取样。
对分装在小容器中的液体，则将样品混匀后取近等量试样于试剂瓶中。
对密闭容器中的液体，可事先放出前面一部分弃去，再接取供分析用。
激光全息光刻产品制作
包括模板制作、信息复制、复合及模切工序。
产前打样阶段可以发现设计、工艺的不合理之处，从而进一步优化以满足客户的定制需求。
工程样品制作流程
包括样品需求输入、技术资料输入、库存物料齐套、样品生产等步骤。
样品需求输入由市场部填写《样品需求及评审单》，技术部完成产品图纸和技术文件。
物料齐套后，技术部领料给制造部样品组，进行样品制作。
这些程序可以根据具体的应用场景和需求进行调整和优化，以确保样品的制备质量和准确性。