光刻使用的程序主要包括以下方面：
物理编程
物理编程是指在光刻机上设置和调整各种物理参数，以确保光刻过程的稳定和精确。主要参数包括光源的功率、光学系统的对焦、色散补偿、曝光时间等。这些参数的调整可以通过光刻机上的控制面板或者软件界面进行。
图形编程
图形编程是指在光刻机上加载并设置芯片的设计图案。这些图案通常是由图形文件生成的，如GDS、DXF、GERBER等格式。在图形编程中，首先需要将设计图案导入到光刻机的软件环境中，然后进行布局、对齐、缩放等操作，最后将图案转化为光刻机所需的控制指令。
光刻机专用软件
光刻机专用软件是为了控制光刻机的运行而设计的，可以将CAD文件转化为光刻机能够理解的格式，并控制光刻机的运动、曝光和清洗等操作。常见的光刻机专用软件有ASML PAS 5500、Nikon NSR-S630D等。
CAD软件
CAD软件是计算机辅助设计软件，用于产品设计和制造过程中的各种计算和模拟。在光刻工艺中，CAD软件用于绘制需要在芯片上进行曝光的图形，并将这些图形转化为光刻机能够识别的格式。常见的CAD软件有AutoCAD、SolidWorks等。
曝光软件
曝光软件是光刻机中最关键的软件之一，用于控制曝光光源的强度、曝光时间以及光刻片的移动速度等参数。这些参数决定了光刻机所制造的芯片的精度和质量。
控制软件
控制软件用于控制光刻机整个工作流程，包括对机械部件、光学部件、电子部件等进行控制和监控。通过控制软件，操作人员可以对光刻机进行各种设置和调整，确保光刻过程的稳定性和准确性。
图像处理软件
图像处理软件主要用于对待曝光的芯片图案进行处理和优化，如缩放、旋转、平滑等操作，以提高芯片的分辨率和制造精度。
数据处理软件
数据处理软件用于对芯片设计数据进行处理和转换，将设计数据转化为光刻机可以识别和处理的格式，如GDSII格式或其他格式。
光刻工艺模拟软件
光刻工艺模拟软件可以模拟光刻胶在不同条件下的曝光、显影过程，研究不同配方光刻胶的特性，优化光刻胶的成分和性能参数，如调整光刻胶的感光度、分辨率等关键指标。
结合以上内容，光刻使用的程序主要包括物理编程和图形编程两个方面，同时涉及多种光刻机专用软件、CAD软件、曝光软件、控制软件、图像处理软件、数据处理软件以及光刻工艺模拟软件。这些程序共同作用，确保光刻机能够按照设计要求进行精确的曝光和制造工作。