消耗臭氧层物质（ODS）是一类对臭氧层有破坏作用的化学物质，主要包括以下几类：
全氯氟烃（CFCs）
主要用作制冷剂、清洗剂和发泡剂。代表性的化合物包括CFC-11、CFC-12等。
哈龙（Halon）
主要用作灭火剂。代表性的化合物包括Halon-1211、Halon-1301、Halon-2402等。
四氯化碳（CCl₄）
主要用作化工生产的助剂和清洗剂。
甲基氯仿（CHCl₃）
主要用作清洗剂。
甲基溴（CH₃Br）
主要在农业种植、粮食仓储或商品检疫中用作杀虫剂。
其他全卤化氟氯化碳
如CFC-13、CFC-111等10种化合物。
氟氯烃类（HCFCs）
如HCFC-21、HCFC-22等共74种。
含氢氯氟烃（HCFCs）
如HCFC-22、HCFC-123、HCFC-141b等。
这些物质在平流层中通过光解作用破坏臭氧分子，导致臭氧层损耗。为了保护臭氧层，国际社会通过《蒙特利尔议定书》及其《基加利修正案》对这些物质的生产和使用进行了严格限制。