在手机芯片光刻机领域，目前全球最先进的光刻机制造商是荷兰的ASML公司，其生产的EUV（极紫外）光刻机是目前市场上最先进的技术，可以实现1纳米级的精度。ASML在全球市场的份额超过50%，占据了绝对优势地位。
尽管如此，由于美国霸权的干涉，禁止中国企业采购ASML的EUV光刻机，这对中国芯片制造业构成了一定的挑战。因此，中国正在加大投入，努力突破技术封锁，制造出最好的光刻机。
此外，美国的应用材料公司（Applied Materials）在光刻胶和光刻胶剥离设备方面具有较高市场占有率，但在光刻机整机领域的竞争力相对较弱。
日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）在ArF（深紫外）光刻机和i-line光刻机市场上具有较高地位，但在EUV光刻机方面的研发进展较慢，市场份额逐渐被ASML侵蚀。
中国的上海微电子是国内领先的光刻机制造商，其生产的浸没式光刻机已经可以实现90纳米精度的生产，尽管与国际领先水平仍有较大差距，但发展迅速，已成为国内芯片制造的核心设备供应商。
综上所述，从全球范围来看，ASML的EUV光刻机在技术和市场份额上处于领先地位。中国正在积极研发光刻机技术，力求在未来实现自主可控。对于国内手机芯片制造商而言，选择光刻机时应综合考虑技术需求、成本预算以及供应链等因素。